Electron beam system and method of manufacturing devices using the system

   
   

An electron beam system wherein a shot noise of an electron beam can be reduced and a beam current can be made higher, and further a shaped beam is formed by a two-stage lenses so as to allow for an operation with high stability. In this electron beam system, an electron beam emitted from an electron gun is irradiated onto a sample and secondary electrons emanated from the sample are detected. The electron gun is a thermionic emission type and designed to operate in a space charge limited condition. A shaping aperture and a NA aperture are arranged in front locations of the electron gun. An image of the shaping aperture formed by an electron beam emitted from the thermionic emission electron gun is focused onto a surface of the sample through the two-stage lenses.

Un sistema del haz electrónico en donde un ruido tirado de un haz electrónico puede ser reducido y una corriente de la viga puede ser hecha más alta, y una viga formada es formado más lejos por las lentes de dos etapas para tener en cuenta una operación con alta estabilidad. En este sistema del haz electrónico, un haz electrónico emitido de un arma de electrón se irradia sobre una muestra y los electrones secundarios emanados de la muestra se detectan. El arma de electrón es un tipo de la emisión termoiónica y diseñado funcionar en condiciones limitadas de la carga del espacio. Una abertura que forma y una abertura del NA se arreglan en las localizaciones delanteras del arma de electrón. Una imagen de la abertura que forma formada por un haz electrónico emitido del arma de electrón de la emisión termoiónica se enfoca sobre una superficie de la muestra a través de las lentes de dos etapas.

 
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