Provided are a method and an apparatus for manufacturing a magnetoresistive
element and a method and an apparatus for manufacturing a magnetic head
which can reduce variation in properties of an magnetoresistive element
and variation in the median of distribution.
Before starting polishing, wafer information containing various types of
factors in a wafer stage which may have an influence on a resistance value
of a final MR film is obtained, and an S value is calculated from the
information by using a statistical scheme. During a polishing step,
ongoing-work-information containing various types of factors in a
polishing stage which may have an influence on the resistance value of the
final MR film is obtained at regular intervals. A K value is calculated
from the information by using the statistical scheme. Then, an MR
resistance estimate during the polishing step is calculated from the S
value and the K value. When the MR resistance estimate reaches a target
resistance value , polishing is stopped.
При условии метод и прибор для изготовлять магниторезистивный элемент и метод и прибор для изготовлять магнитную головку может уменьшить изменение в свойствах магниторезистивного элемента и изменение в медиане распределения. Перед начиная полировать, получены данные по вафли содержа различные типы факторов в этапе вафли который может иметь влияние на значении сопротивления окончательного ГА-Н пленки, и значение с высчитано от информации путем использование статистически схемы. Во время полируя шага, онгоинг-работать-informaqi4 содержа различные типы факторов в полируя этапе который может иметь влияние на значении сопротивления окончательного ГА-Н пленки получена на регулярных интервалах. Значение к высчитано от информации путем использование статистически схемы. После этого, Г-Н предварительный подчет сопротивления во время полируя шага высчитан от значения с и значения к. Когда Г-Н предварительный подчет сопротивления достигает значение сопротивления цели, полировать остановлен.
