A method for measuring a target constituent of an electroplating solution using an electroanalytical technique is set forth in which the electroplating solution includes one or more constituents whose by-products skew an initial electrical response to an energy input of the electroanalytical technique. The method comprises a first step in which an electroanalytical measurement cycle of the target constituent is initiated by providing an energy input to a pair of electrodes disposed in the electroplating solution. The energy input to the pair of electrodes is provided for at least a predetermined time period corresponding to a time period in which the electroanalytical measurement cycle reaches a steady-state condition. In a subsequent step, an electroanalytical measurement of the energy output of the electroanalytical technique is taken after the electroanalytical measurement cycle has reached the steady-state condition. The electroanalytical measurement is then used to determine an amount of the target constituent in the electroplating solution. An automatic dosing system that includes the foregoing method and/or one or more known electroanalytical techniques in a close-loop system is also set forth.

Eine Methode für das Messen eines Zielbestandteils einer galvanisierenden Lösung, die eine electroanalytical Technik verwendet, wird festgelegt, in der die galvanisierende Lösung einen oder mehr Bestandteile miteinschließt deren Nebenerscheinungen eine elektrische zuerstantwort zu einer Energieaufnahme der electroanalytical Technik skew. Die Methode enthält einen ersten Schritt, in dem ein electroanalytical Maßzyklus des Zielbestandteils durch das Zur Verfügung stellen einer Energieaufnahme zu einem Paar Elektroden eingeleitet wird, die in der galvanisierenden Lösung abgeschaffen werden. Die Energieaufnahme zum Paar der Elektroden wird während mindestens eines vorbestimmten Zeitabschnitts zur Verfügung gestellt, der einem Zeitabschnitt entspricht, in dem der electroanalytical Maßzyklus einen steady-state Zustand erreicht. In einem folgenden Schritt wird ein electroanalytical Maß des Energieausganges der electroanalytical Technik nach dem electroanalytical Maßzyklus hat erreicht den steady-state Zustand genommen. Das electroanalytical Maß wird dann verwendet, um eine Menge des Zielbestandteils in der galvanisierenden Lösung festzustellen. Ein automatisches dosierendes System, das die vorangehende Methode einschließt und/oder man oder mehr bekannte electroanalytical Techniken in einem geschlossenen System wird auch festgelegt.

 
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< Apparatus for providing electrical and fluid communication to a rotating microelectronic workpiece during electrochemical processing

< Robot for handling workpieces in an automated processing system

> Process for etching thin-film layers of a workpiece used to form microelectric circuits or components

> Seal configuration for use with a motor drive assembly in a microelectronic workpiece processing system

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