Workpieces requiring low levels of contamination, such as semiconductor wafers, are loaded into a rotor within a process chamber. The process chamber has a horizontal drain opening in its cylindrical wall. The chamber is closed via a door. A process or rinsing liquid is introduced into the chamber. The liquid rises to a level so that the workpieces are immersed in the liquid. The chamber slowly pivots or rotates to move the drain opening down to the level of the liquid. The liquid drains out through the drain opening. The drain opening is kept near the surface of the liquid to drain off liquid at a uniform rate. An organic solvent vapor is introduced above the liquid to help prevent droplets of liquid from remaining on the workpieces as the liquid drains off. The rotor spins the workpieces to help to remove any remaining droplets by centrifugal force.

Workpieces требуя низких уровней загрязнения, such as вафли полупроводника, нагружены в ротор внутри отростчатая камера. Отростчатая камера имеет горизонтальное отверстие стока в своей цилиндрической стене. Камера закрыта через дверь. Процесс или жидкость полоскать введены в камеру. Жидкость поднимает к уровню так, что workpieces будут погружены в жидкости. Камера медленно делает поворот или вращает для того чтобы двинуть вплоть отверстия стока до уровень жидкости. Жидкость стекает вне через отверстие стока. Отверстие стока сдержано почти поверхность жидкости для того чтобы drain off жидкость на равномерном тарифе. Пар органического растворителя введен над жидкостью для того чтобы помочь предотвратить капельки жидкости от остающегося на workpieces по мере того как жидкость стекает. Ротор закручивает workpieces для того чтобы помочь извлечь все остальные капельки центробежным усилием.

 
Web www.patentalert.com

< Apparatus for processing a microelectronic workpiece including a workpiece cassette inventory assembly

< System for processing a workpiece

> Method for high deposition rate solder electroplating on a microelectronic workpiece

> Apparatus for providing electrical and fluid communication to a rotating microelectronic workpiece during electrochemical processing

~ 00096