A MOS ring oscillator includes a number of serially connected inverter
stages with each stage comprising a MOS transistor pair. At least one of
the transistors also comprises a scatterometry grate array, which is used
during manufacturing of the ring oscillator to obtain scatterometry
measurements that allow polysilicon lines of the MOS ring oscillator to
have widths of less than 60 nm. A method includes forming at least one
grate array above a substrate, illuminating the grate array, measuring
light reflected off of the grate array to generate an optical
characteristic trace for the grate array, and comparing the generated
optical characteristic trace to a target optical characteristic trace that
corresponds to a grate array having a desired profile. The generated trace
can further be used to calibrate the ring oscillator
Генератор кольца mos вклюает несколько серийно соединенные этапы инвертора при каждый этап состоя из пары транзистора mos. По крайней мере один из транзисторов также состоит из scatterometry блока решетки, который использован во время изготавливания генератора кольца для того чтобы получить scatterometry измерения которые позволяют линии polysilicon генератора кольца mos иметь ширины меньш чем 60 nm. Метод вклюает формировать по крайней мере один блок решетки над субстратом, освещать блок решетки, измерять свет отраженные, что блока решетки произвел оптически характерный след для блока решетки, и сравнивать произведенный оптически характерный след к следу цели оптически характерному который соответствует к блоку решетки имея заданный профиль. Произведенный след можно более далее использовать для того чтобы откалибрировать генератор кольца
