A semiconductor device which includes, between a copper conductive layer
and a low-k organic insulator, a barrier layer comprising an amorphous
metallic glass, preferably amorphous tantalum-aluminum. A method of making
the semiconductor device is also disclosed.
Een halfgeleiderapparaat dat, tussen een koper geleidende laag en een organische isolatie laag-k omvat, een barrièrelaag bestaand uit een amorf metaalglas, bij voorkeur amorf tantalium-aluminium. Een methode van het maken wordt het halfgeleiderapparaat ook onthuld.
