The invention includes a method of depositing a noble metal. A substrate is
provided. The substrate has a first region and a second region. The first
and second regions are exposed to a mixture comprising a precursor of a
noble metal and an oxidant. During the exposure, a layer containing the
noble metal is selectively deposited onto the first region relative to the
second region. In particular applications, the first region can comprise
borophosphosilicate glass, and the second region can comprise either
aluminum oxide or doped non-oxidized silicon. The invention also includes
capacitor constructions and methods of forming capacitor constructions.
Die Erfindung schließt eine Methode des Niederlegens eines Edelmetalls ein. Ein Substrat wird zur Verfügung gestellt. Das Substrat hat eine erste Region und eine zweite Region. Die ersten und zweiten Regionen werden einer Mischung ausgesetzt, die einen Vorläufer von einem Edelmetall und von einem Oxydationsmittel enthält. Während der Belichtung wird eine Schicht, die das Edelmetall enthält, selektiv auf die erste Region im Verhältnis zu der zweiten Region niedergelegt. Insbesondere können Anwendungen, die erste Region borophosphosilicate Glas enthalten, und die zweite Region kann jedes Aluminiumoxyd oder lackierte nicht oxidierte Silikon enthalten. Die Erfindung schließt auch Kondensatoraufbauten und Methoden der Formung der Kondensatoraufbauten ein.
